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术语内容
- sp3
- 硬质合金原子类似于天然金刚石
- sp2
- 硬质合金原子类似于石墨
- PVD
- 物理气相沉积是在涂层设备炉膛，通过靶材的气化沉积涂层的物理过程。源源是PVD 语术，它是一种装置，用来装夹靶材，同时包括触发器，磁体，壳体和冷却系统，源有时指阴极。
- PECVD
- 离子加强CVD
- PACVD
- 离子活化CVD 或离子加强CVD ，这是CVD 的低温（低于200 ℃）的加工过程，在PACVD 情况下，通过RF 电源进行气体反应。
- 微米
- 微米是百万分之一米
- CVD
- 化学气相沉积过程是由反应气体通过化学反应进行涂层沉积，在标准的CVD 情况下，该反应在800 - 1050 ℃的高温下进行。工艺时间涂层时间是一个完整的过程，从一批次装载到涂层、冷却和卸载。
- CVA
- 铝化化学气相沉积过程扩散铝合金到部件表面，提高抗高温能力，防腐和抗氧化性能。
- ADLC
- 无定形金刚石硬质合金材料含有大量的SP3 而且具有所需的金刚石和石墨的优良性能。批次一个批次指能在同一炉，同一时间进行涂层的零件组阴极阴极是一个PVD 语术，通常指阴极源或靶材，更严格地说指阴极，是靶材安装的极板，并在涂层工序中发生气化。
